เป็นระบบเตาเผาแบบให้ความร้อนอย่างรวดเร็วที่ใช้ในกระบวนการผลิตฟิล์มบางนาโนและเซมิคอนดักเตอร์ โดยสามารถทำความร้อนได้อย่างรวดเร็วและควบคุมอุณหภูมิได้อย่างแม่นยำ เหมาะสำหรับการใช้งานในห้องปฏิบัติการวิจัยและการผลิตขนาดเล็ก
*ราคาอาจมีการเปลี่ยนแปลงตามอัตราแลกเปลี่ยน โปรดสอบถาม Line : @siamintercorp
21 เมษายน 2568
ผู้ชม 537 ผู้ชม
การใช้งานหลักของ AS-Micro RTP System
- Rapid Thermal Annealing (RTA): การอบความร้อนอย่างรวดเร็ว เพื่อปรับปรุงคุณสมบัติของวัสดุ เช่น การกระจายตัวของอะตอม การลดความเครียดภายในวัสดุ
- Implantation annealing: การอบหลังการยิงฝังไอออน เพื่อกระตุ้นให้ไอออนที่ฝังเข้าไปอยู่ในตำแหน่งที่เหมาะสม
- Ohmic contact annealing: การอบเพื่อสร้างจุดสัมผัสโอห์มิก ซึ่งเป็นจุดสัมผัสที่มีความต้านทานไฟฟ้าคงที่
- Rapid thermal oxidation (RTO): การเกิดออกไซด์บนผิวของวัสดุอย่างรวดเร็ว
- Densification (การเพิ่มความหนาแน่น) คือ กระบวนการลดช่องว่างภายในวัสดุ ทำให้อนุภาคเกาะกันแน่นขึ้น ส่งผลให้วัสดุแข็งแรงและหนาแน่นมากขึ้น เช่น การเผาเซรามิกเพื่อลดรูพรุน
- Crystallization (การตกผลึก)คือ กระบวนการที่อะตอมหรือโมเลกุลจัดเรียงตัวเป็นระเบียบ เพื่อสร้างโครงสร้างผลึก ทำให้วัสดุมีคุณสมบัติเฉพาะ เช่น ความแข็ง ความใส หรือการนำไฟฟ้า
- Diffusion of dopants หรือ การแพร่ของสารเจือปน คือกระบวนการที่อะตอมหรือไอออนของสารเจือ (dopants) เคลื่อนที่และแทรกซึมเข้าไปในวัสดุหลัก (เช่น ซิลิคอน) ผ่านการแพร่ (diffusion) เพื่อปรับแต่งคุณสมบัติทางไฟฟ้าของวัสดุนั้น
Rapid Thermal Annealing system
- Rapid Thermal Annealing (RTA)
- Implant annealing
- Ohmic contact annealing
- Rapid Thermal Oxidation (RTO)
- Densification and crystallization
- Diffusion of dopants
- Etc.
2-inch rapid thermal processor for universities
The JetLight is a compact table top two-inch rapid thermal processor with vacuum capability dedicated to research applications. It can process substrates from few square millimeters up to 2-inch diameter. Optional susceptors are available to hold small samples and to process substrates with low infrared absorption.
The quartz tube process chamber with stainless steel flanges and tubular infrared halogen lamps furnace allows running processes up to 1000?C.
The horizontal motion door with quartz tray provides easy access for loading and unloading of the wafers and thermocouple installation.
The JetLight is a compact table top two-inch rapid thermal processor with vacuum capability dedicated to research applications. It can process substrates from few square millimeters up to 2-inch diameter. Optional susceptors are available to hold small samples and to process substrates with low infrared absorption.
The quartz tube process chamber with stainless steel flanges and tubular infrared halogen lamps furnace allows running processes up to 1000?C.
The horizontal motion door with quartz tray provides easy access for loading and unloading of the wafers and thermocouple installation.
